Prototipe Sumber Cahaya EUV China Tampil di Shanghai, Produksi Massal Masih Tiga hingga Lima Tahun Lagi

Prototipe sumber cahaya tampil di hadapan publik

Startup Shanghai, Langdao Suiyan, memamerkan prototipe sumber cahaya ultraviolet ekstrem (EUV) di Pameran Industri Internasional China ke-26. Perusahaan itu menyatakan bahwa 90 persen komponennya dibuat di China, sementara produksi massal diperkirakan masih tiga hingga lima tahun lagi. Pameran tersebut, yang dilaporkan pada Oktober 2026, memperlihatkan kepada publik salah satu bagian spesifik dari upaya China mengembangkan teknologi pembuatan cip canggih: peralatan yang dirancang untuk menghasilkan cahaya guna mencetak pola sirkuit berukuran sangat kecil.

Produk yang dipamerkan adalah sumber cahaya EUV, salah satu komponen utama mesin litografi. Mesin lengkap juga membutuhkan optik presisi, platform untuk memosisikan wafer silikon, sistem vakum, serta kendali yang memastikan semua bagian itu bekerja bersama. Jadwal Langdao berkaitan dengan pengembangan sumber cahaya. Staf perusahaan menyebut peningkatan daya keluaran dan pengoperasian andal dalam jangka panjang sebagai tugas utama ke depan.

Perwakilan perusahaan mengatakan prototipe tersebut dapat digunakan untuk pengujian paparan cip. Spesifikasi produk yang dikaitkan dengan perusahaan mencantumkan daya keluaran EUV di atas 15 watt dan pengoperasian berkelanjutan lebih dari 100 jam untuk sistem berdaya rendah FlintNano. Tidak ada hasil pengujian independen atau rincian hasil paparan dari prototipe yang dipamerkan yang diungkapkan, sehingga kinerjanya dalam pengujian pembuatan cip praktis masih belum diketahui.

Pengembangan ini penting karena pembuat cip China tidak dapat membeli mesin litografi EUV dari pemasok Belanda, ASML, akibat pembatasan ekspor. Sumber cahaya buatan dalam negeri pada akhirnya dapat mendukung rantai pasok alternatif. Untuk saat ini, pameran di Shanghai itu menunjukkan sebuah perusahaan muda yang menggarap salah satu komponen paling menantang, dengan estimasi perusahaan sendiri masih mencakup bertahun-tahun rekayasa.

Apa yang dipamerkan di Shanghai?

Prototipe Langdao menempati posisi sederhana di area pameran Shanghai, di aula teknologi inovasi pameran tersebut. Bagian luarnya yang kasar menarik perhatian, sementara staf menolak wawancara resmi dengan media. Laporan lain mengenai pameran itu mencatat penjelasan teknis dari perwakilan perusahaan, termasuk klaim tentang proporsi komponen buatan dalam negeri dan perkiraan jadwal produksi.

Langdao mengatakan pihaknya hadir atas undangan Pusat Inovasi Teknologi Shanghai. Staf menyebut keikutsertaan itu sebagai cara untuk menunjukkan bahwa tim China sedang mengembangkan teknologi pembangkitan cahaya EUV serta mengajak publik bersabar menghadapi proses pengembangan yang membutuhkan waktu.

Litografi bekerja dengan memaparkan lapisan peka cahaya pada wafer silikon ke suatu pola. Tahap-tahap manufaktur berikutnya mengubah pola tersebut menjadi bagian dari sirkuit elektronik. Cahaya EUV memiliki panjang gelombang sekitar 13,5 nanometer, sehingga peralatan yang sesuai dapat mencetak pola yang sangat halus. Menghasilkan cahaya itu hanyalah langkah awal: mesin juga harus mengarahkannya secara akurat dan memberikan paparan yang konsisten.

Spesifikasi yang dipublikasikan

FlintNano LPP-OXXO dari Langdao adalah sistem berdaya rendah yang spesifikasinya dijelaskan paling rinci. Perusahaan menyebut lini FlintNano berada dalam tahap pengembangan produk dan komersialisasi, sementara lini FlintMicro-LPP yang berdaya lebih tinggi telah menyelesaikan kajian prinsip dan kelayakan.

Spesifikasi yang dikaitkan dengan Langdao mencakup:

• Laser penggerak berdaya 1.000 watt, beroperasi pada frekuensi 1 hingga 20 kilohertz.
• Efisiensi konversi di atas 2 persen dan daya keluaran EUV di atas 15 watt.
• Pengoperasian berkelanjutan lebih dari 100 jam.
• Ukuran plasma 60 mikrometer.
• Stabilitas plasma dalam kisaran 3 persen RMS dan stabilitas daya keluaran sebesar 5 persen.

Watt mengukur daya, atau seberapa cepat energi disalurkan. Rating laser 1.000 watt menggambarkan daya yang disuplai laser penggerak, sedangkan rating daya keluaran EUV menggambarkan cahaya berguna yang dihasilkan sistem. Keduanya merupakan tahapan yang berbeda dalam proses tersebut. Kilohertz mengukur frekuensi pengulangan; 1 kilohertz berarti 1.000 siklus setiap detik.

Ukuran stabilitas RMS merangkum fluktuasi selama periode pengukuran. Bagi produsen cip, persoalan praktisnya adalah apakah setiap paparan menerima jumlah cahaya yang cukup konsisten. Variasi dapat memengaruhi ketepatan pembentukan pola sirkuit pada lapisan wafer.

Bagaimana cahaya dihasilkan

Langdao mengembangkan teknologi plasma yang dihasilkan laser, yang biasanya disingkat LPP. Dalam pendekatan ini, laser berkekuatan tinggi ditembakkan ke tetesan timah kecil, menghasilkan plasma yang sangat panas dan memancarkan cahaya EUV. Plasma adalah wujud materi ketika atom-atomnya kehilangan sebagian elektronnya. Cermin kolektor menangkap sebagian cahaya yang dipancarkan dan mengarahkannya ke sistem paparan.

Mesin EUV komersial ASML juga menggunakan sumber LPP. Tantangan rekayasanya terletak pada kemampuan mengulangi proses secara akurat, mengumpulkan cukup cahaya berguna, dan melindungi peralatan sensitif dari dampak plasma. Aliran tetesan timah yang stabil, laser penggerak yang kuat, dan cermin kolektor yang tahan lama harus bekerja bersama.

Lingkup usaha Langdao yang lebih luas mencerminkan kebutuhan tersebut. Selain sumber cahaya EUV, perusahaan itu menggarap laser karbon dioksida berdaya tinggi dan perangkat lunak simulasi plasma. Laser menyediakan perangkat keras penggerak, sementara perangkat lunak simulasi membantu para insinyur mempelajari perilaku plasma dan menyesuaikan kondisi operasional.

Upaya riset China juga mencakup pendekatan alternatif, seperti plasma pelepasan yang diinduksi laser dan pembangkitan cahaya berbasis akselerator. Proyek-proyek tersebut memiliki jadwal pengembangan masing-masing. Estimasi publik Langdao untuk mencapai produksi massal sumber cahayanya masih tiga hingga lima tahun.

Mengapa daya lebih tinggi dan masa pakai lebih lama penting

Sistem EUV komersial membutuhkan sumber cahaya dengan daya ratusan watt serta pengoperasian andal selama proses manufaktur intensif. Daya keluaran sistem berdaya rendah Langdao yang dipublikasikan, yakni di atas 15 watt, menempatkannya dalam kategori pengoperasian yang berbeda. Untuk digunakan di pabrik, daya cahaya berguna yang dihasilkan perlu ditingkatkan tanpa mengorbankan kestabilan peralatan.

Cahaya berguna yang lebih banyak dapat membantu sistem litografi memaparkan wafer dengan lebih cepat. Hal itu memengaruhi jumlah wafer yang dapat diproses pabrik serta biaya setiap paparan. Keandalan sama pentingnya: gangguan pada mesin dapat menunda produksi dan mengurangi nilai sumber cahaya yang sebenarnya berdaya tinggi.

Cermin kolektor menjadi tantangan khusus karena beroperasi dekat dengan plasma berenergi tinggi. Generator tetesan timah juga harus terus menyalurkan tetesan pada posisi dan waktu yang tepat. Perubahan kecil dalam kedua proses tersebut dapat memengaruhi cahaya yang mencapai wafer.

Pengoperasian lebih dari 100 jam yang dinyatakan Langdao setara dengan lebih dari empat hari. Pelanggan pabrik juga akan membutuhkan informasi tentang interval perawatan, penggantian komponen, dan kinerja dalam siklus pengoperasian berulang. Staf mengaitkan pekerjaan rekayasa yang masih tersisa secara langsung dengan peningkatan daya keluaran dan stabilitas.

Makna klaim 90 persen komponen lokal

Perwakilan perusahaan mengatakan 90 persen komponen prototipe telah dilokalkan, dengan sebagian besar komponen inti dikembangkan secara internal. Mereka juga menjelaskan kesulitan mendapatkan beberapa komponen impor dan mengatakan bahwa alternatif buatan China masih memiliki kesenjangan stabilitas di sejumlah bidang.

Langdao tidak menjelaskan apakah angka 90 persen dihitung berdasarkan jumlah komponen, nilai, atau metode lain. Bagi pembaca, pertanyaan pentingnya adalah komponen mana yang masih sulit diganti dan bagaimana komponen tersebut memengaruhi keandalan sistem secara keseluruhan. Sebagian kecil komponen tetap dapat mencakup peralatan yang penting bagi pengoperasian berkelanjutan.

Staf menolak mengidentifikasi komponen impor yang tersisa. Penjelasan mereka menggambarkan tantangan rekayasa yang melibatkan jaringan pemasok, bukan hanya pekerjaan perakitan satu perusahaan. Komponen lokal yang lebih baik perlu tersedia dengan mutu konsisten dan masa pakai operasional yang andal.

Bagi pabrik wafer China, sumber lokal yang matang pada akhirnya dapat mengurangi ketergantungan pada peralatan dan suku cadang pengganti yang terdampak pembatasan. Tugas saat ini adalah mengubah desain dalam negeri menjadi komponen yang dapat bekerja bersama secara konsisten dalam jangka panjang.

Startup yang didukung investor industri cip

Langdao didirikan pada 2024. Pendirinya, Wang Hao, dan timnya memanfaatkan riset dari Laboratorium Pelepasan Gas dan Plasma Universitas Tsinghua, dengan fokus pada teknologi LPP untuk sumber litografi EUV.

Perkembangan perusahaan diiringi beberapa putaran pendanaan. Investor yang disebut dalam laporan pendanaan mencakup Woyan Capital dan China Fortune-Tech Capital, yang memiliki hubungan dengan Semiconductor Manufacturing International Corporation, pembuat cip kontrak terkemuka di China. Dukungan tersebut menghubungkan startup ini dengan investor yang memahami peralatan dan manufaktur semikonduktor.

Urutan yang dilaporkan mencakup pendirian perusahaan, pendanaan, hingga pameran untuk publik:

• 2024: Langdao didirikan dan memulai proyek sumber cahaya EUV.
• Oktober 2025: Suiyue Ventures, yang terkait dengan Zhangjiang Hi-Tech, memberikan pendanaan malaikat.
• Januari 2026: Perusahaan menyelesaikan putaran pendanaan malaikat tambahan.
• Juli 2026: Langdao menyelesaikan putaran Seri A.
• Oktober 2026: Prototipe sumber cahaya dipamerkan kepada publik di pameran industri Shanghai.

Pendanaan memberi perusahaan sumber daya untuk peralatan, perekrutan, dan pengembangan lebih lanjut. Jadwal Langdao sendiri masih memperkirakan beberapa tahun rekayasa setelah debut publik, yang menunjukkan jarak antara pendanaan prototipe dan penyediaan produk industri yang dapat diproduksi secara konsisten.

Kontrol ekspor terus mendorong pengembangan dalam negeri

ASML merupakan satu-satunya pemasok komersial sistem litografi EUV lengkap. Pembatasan mencegah penjualan sistem tersebut ke China, sehingga alternatif buatan dalam negeri menjadi prioritas strategis bagi produsen China. ASML memperkuat kemampuan sumber cahayanya melalui akuisisi Cymer pada 2013, sebagai bagian dari pengembangan industri jangka panjang yang melandasi peralatan saat ini.

Pembuat cip China terus menggunakan peralatan ultraviolet dalam (DUV) untuk produksi. DUV menggunakan panjang gelombang yang lebih besar daripada EUV. Produsen dapat menggunakan litografi multi-pola, yakni membagi pola sirkuit kompleks ke dalam beberapa tahap pemrosesan, untuk memperluas kemampuan produksi mesin tersebut. Tahap tambahan meningkatkan kompleksitas dan biaya manufaktur.

CEO ASML Christophe Fouquet menyatakan keraguan tentang seberapa cepat China dapat menyamai teknologi perusahaannya. Dalam sebuah panggilan dengan investor, ia menggambarkan jarak yang masih harus ditempuh China:

masih sangat, sangat jauh

Estimasi Langdao selama tiga hingga lima tahun memberikan gambaran yang lebih spesifik mengenai proyeknya sendiri. Jika dihitung sejak pameran yang dilaporkan pada Oktober 2026, estimasi itu mengarah ke sekitar 2029 hingga 2031 jika pengembangan berjalan sesuai perkiraan. Jadwal tersebut berlaku untuk sumber cahayanya, sedangkan mesin litografi lengkap membutuhkan sistem utama lainnya mencapai tingkat kinerja yang kompatibel.

Perkembangan di sektor lain memberi perspektif tentang EUV

Pemasok China juga memperluas kiprahnya pada tahap manufaktur di luar litografi. Dalam pameran semikonduktor di Shenzhen yang berlangsung pada periode yang sama, Hwatsing memamerkan mesin implantasi ion, Leadmicro menampilkan peralatan untuk mendepositkan lapisan tipis, dan Piotech mengumumkan teknologi deposisi film karbon untuk cip memori dan logika.

Perkembangan tersebut penting karena pabrik wafer bergantung pada beragam jenis peralatan. Implantasi ion mengubah sifat kelistrikan area tertentu pada silikon. Deposisi menambahkan lapisan tipis material. Litografi membentuk pola yang menjadi panduan bagi proses berikutnya. Kemajuan di berbagai tahap ini dapat meningkatkan penggunaan peralatan dalam negeri meskipun pengembangan EUV masih berlanjut.

Bernstein Research memperkirakan pemasok domestik akan menguasai 52 persen pasar peralatan fabrikasi wafer China pada 2028, dibandingkan dengan perkiraan 28 persen pada 2026. Itu merupakan kenaikan yang diproyeksikan sebesar 24 poin persentase. Perkiraan tersebut mencakup pasar peralatan yang jauh lebih luas daripada litografi EUV.

Perkembangan penting Langdao berikutnya akan berkaitan dengan peningkatan daya keluaran, keandalan yang terjaga, dan kinerja paparan selama masa rekayasa yang telah ditetapkan. Warganet China juga mempertanyakan apakah publikasi seputar pameran itu bertujuan menarik pendanaan dan membangkitkan antusiasme patriotik. Publikasi hasil operasional yang terperinci akan memberi calon pelanggan dan investor informasi yang lebih konkret mengenai kemajuan produk.

Poin Utama

• Langdao Suiyan memamerkan prototipe sumber cahaya EUV di Shanghai, dengan staf perusahaan mengklaim 90 persen komponennya berasal dari dalam negeri.
• Pameran itu menampilkan sumber cahaya, salah satu dari beberapa sistem utama yang diperlukan dalam mesin litografi EUV lengkap.
• Spesifikasi FlintNano yang dipublikasikan mencakup daya keluaran EUV di atas 15 watt dan pengoperasian lebih dari 100 jam.
• Staf memperkirakan produksi massal baru akan dimulai dalam tiga hingga lima tahun, dengan daya dan keandalan sebagai tugas utama rekayasa.
• Perusahaan didirikan pada 2024 dan menarik investor yang terkait dengan industri semikonduktor China.
• Pembatasan ekspor mesin EUV ASML terus mendorong upaya China mengembangkan peralatan dalam negeri.