Persaingan yang berubah akibat kontrol ekspor
Selama tujuh tahun, Washington terus memperketat aliran cip, perangkat lunak, dan peralatan pabrik ke China. Tujuan awalnya jelas: memutus akses China ke semikonduktor tercanggih serta mesin dan perangkat lunak yang diperlukan untuk memproduksinya, lalu memperlambat kemajuan negara itu dalam kecerdasan buatan, komputasi kinerja tinggi, dan sistem militer. Upaya tersebut mengganggu rantai pasok dan menghalangi perusahaan China memperoleh akses siap pakai ke prosesor paling canggih. Upaya itu juga memicu percepatan besar-besaran di seluruh China untuk merancang ulang, mengubah peralatan, dan mengganti hampir setiap bagian dari rantai industri, mulai dari desain cip hingga pengemasan.
Daftar Isi
- Persaingan yang berubah akibat kontrol ekspor
- Upaya Washington memblokir akses dan perkembangan aturannya
- Cip versus peralatan
- Strategi China untuk membangun ketahanan dan bergerak cepat
- Pendanaan dan koordinasi negara
- Persaingan daerah sebagai pendorong
- Aliansi yang dibangun di sekitar GPU domestik
- Jalan pintas dan terobosan di tengah tekanan
- Dari siasat DUV hingga pengemasan canggih
- Memori dan penyimpanan
- Desain, EDA, dan arsitektur terbuka
- Model AI yang menghasilkan lebih banyak dengan sumber daya lebih sedikit
- Titik hambatan yang masih tersisa
- Dampak terhadap bisnis global
- Permintaan AI mengubah peta kekuatan pasar
- Pertukaran kepentingan kebijakan dan tantangan penegakan
- Hal yang perlu dicermati berikutnya
- Poin Utama
Hasilnya lebih rumit daripada sekadar pencekikan akses. Kontrol ekspor meningkatkan biaya dan menimbulkan penundaan di China, tetapi juga memicu gelombang substitusi, aliansi baru, dan siasat teknis. Perusahaan seperti Huawei dan SMIC merambah desain dan manufaktur canggih. Dana baru dari pemerintah kota dan investor negara mengalir ke peralatan, bahan, dan pengemasan cip. Perusahaan domestik terkemuka di bidang memori dan peralatan cip pun mencatat kemajuan. Fase berikutnya dalam persaingan ini akan ditentukan oleh kemampuan China memperluas capaian tersebut dan cara Amerika Serikat menyempurnakan kontrol sambil berinvestasi di dalam negeri.
Semikonduktor tetap menjadi tulang punggung kehidupan modern. Cip menggerakkan pusat data cloud, ponsel, mobil, robot pabrik, dan sistem persenjataan. Kendali atas cip canggih dan sarana untuk memproduksinya kini dipandang sebagai aset strategis. Kedua pihak bergerak cepat, tetapi berangkat dari kondisi dan kendala yang berbeda. China masih bergantung pada peralatan asing untuk teknologi terdepan, sementara Amerika Serikat dan sekutunya menghadapi risiko bahwa kontrol yang luas akan mempersempit akses mereka sendiri ke pasar cip terbesar di dunia dan mempercepat upaya China mencapai kemandirian.
Upaya Washington memblokir akses dan perkembangan aturannya
Kontrol Amerika diberlakukan secara bertahap. Langkah awal pada 2018 dan 2019 memasukkan perusahaan China ke dalam Entity List, yang mewajibkan adanya lisensi untuk menggunakan teknologi AS. Pada 2022, AS memperluas pembatasan ke prosesor AI canggih, GPU pusat data, dan peralatan utama pembuatan cip. Aturan juga menjangkau perusahaan non-AS melalui Foreign Direct Product Rule, sehingga kontrol berlaku untuk cip yang dirancang dengan perangkat lunak AS atau dibuat menggunakan peralatan AS. Sepanjang 2023 dan 2024, pembatasan kembali diperketat dengan menambah kategori peralatan, memperluas daftar entitas China, serta mencakup memori pita lebar tinggi, perangkat lunak desain, bahkan akses cloud untuk melatih model AI. Pada awal 2025, Washington memperkenalkan kerangka berjenjang yang membedakan akses berdasarkan negara dan perusahaan, sementara sejumlah usulan berupaya membatasi pengiriman ke daftar panjang negara.
Langkah-langkah ini menekan pendapatan pemasok Amerika dan meningkatkan ketidakpastian global. Perusahaan GPU terkemuka AS merancang cip dengan kinerja lebih rendah untuk China agar tetap mematuhi aturan, tetapi revisi berikutnya menutup celah tersebut. Produsen peralatan AS menghadapi penundaan lisensi dan makin terbatasnya gambaran tentang pasar yang dahulu menyumbang porsi besar penjualan mereka. Pada saat yang sama, kontrol terhadap peralatan pembuatan cip canggih mulai efektif berkat koordinasi dengan sekutu di Belanda dan Jepang. Titik hambatan dalam litografi serta sejumlah peralatan deposisi dan etsa menjadi instrumen paling efektif.
Cip versus peralatan
Cip jadi berukuran kecil, mudah dipindahkan, dan gampang disembunyikan dalam pengiriman transit. Peralatan pabrik dan dukungan rumit yang dibutuhkannya lebih sulit diselundupkan dan lebih mudah diawasi. Itulah sebabnya kontrol peralatan berdampak lebih besar daripada kontrol cip. Meski demikian, penegakan aturan tetap menjadi tantangan. Pembeli China menggunakan perantara dan yurisdiksi yang bersahabat untuk mengalihkan sebagian komponen canggih. Situasi terus berubah seiring perkembangan aturan, dan setiap perubahan memunculkan upaya baru untuk mematuhi, beradaptasi, atau mengakali aturan.
Strategi China untuk membangun ketahanan dan bergerak cepat
Respons Beijing memadukan koordinasi negara dengan persaingan dari bawah. Strategi nasional menetapkan arah, tetapi pemerintah daerah, perusahaan swasta, dan investor negara sama-sama berlomba mengisi kekurangan. Tujuannya adalah membangun ekosistem yang nyaris lengkap pada teknologi proses matang dan menengah, lalu mendorong batas kemampuan sejauh mungkin melalui metode alternatif dan investasi besar.
Pendanaan dan koordinasi negara
China menata ulang pengelolaan sains dan teknologi untuk memusatkan pendanaan dan pengawasan bidang strategis, termasuk semikonduktor. Kelompok terkemuka yang diketuai pejabat setingkat wakil perdana menteri menetapkan prioritas, sementara National IC Industry Investment Fund dan dana pemerintah kota mendukung proyek di bidang peralatan, bahan, dan pengemasan canggih. Jumlah riset China di bidang desain dan manufaktur semikonduktor melonjak. Tim peneliti mengembangkan gagasan tidak konvensional dalam bahan dan arsitektur, bukan sekadar mengikuti jalur yang ditempuh perusahaan terkemuka di Barat dan Asia.
Persaingan daerah sebagai pendorong
Pemerintah kota dan provinsi menjadi pendukung kuat proyek cip domestik. Shenzhen meluncurkan dana multiyear untuk desain, peralatan, dan pengemasan. Shanghai mendukung perusahaan peralatan cip serta dana ekuitas swasta yang lebih besar dengan fokus pada perusahaan unggulan lokal. Hangzhou dan Hubei menggelontorkan komitmen besar, termasuk program yang terkait dengan YMTC, pemimpin di bidang memori. Persaingan ini menarik modal dan talenta, mempercepat pengembangan lini percontohan, serta mendorong tim mencapai tonggak teknis.
Aliansi yang dibangun di sekitar GPU domestik
Ketika kontrol mempersempit akses ke GPU papan atas AS, perusahaan cloud, startup AI, dan perancang cip China membentuk aliansi untuk membangun tumpukan perangkat lunak dan perangkat keras di sekitar akselerator domestik. Sebuah kelompok industri yang dibentuk di Shanghai untuk mendorong penggunaan prosesor lokal dalam pelatihan AI mencerminkan upaya tersebut. Perusahaan menyesuaikan kerangka kerja, kompiler, dan rangkaian alat model untuk lini Ascend Huawei serta akselerator lokal lainnya, sementara pengembang AI terkemuka melaporkan bahwa mereka melatih model besar menggunakan klaster komputasi China.
Wei Shaojun, yang memimpin cabang desain sirkuit terpadu di asosiasi semikonduktor utama China, menggambarkan suasana di industri itu dengan lugas sebelum menyerukan strategi dua jalur yang mencakup kemandirian dan keterlibatan global.
Semakin keras pihak lain menekan kami, semakin kami perlu mandiri. Namun, kemandirian bukan berarti mengisolasi diri.
Jalan pintas dan terobosan di tengah tekanan
Perusahaan China berupaya memperkecil kesenjangan melalui kombinasi kecerdikan proses, desain tingkat sistem, serta investasi besar di bidang memori dan pengemasan. Kemajuan utama yang menjadi sorotan belum menghilangkan semua hambatan, tetapi menunjukkan bahwa kemajuan tetap mungkin dicapai tanpa perangkat yang kini dibatasi oleh sekutu AS.
Dari siasat DUV hingga pengemasan canggih
SMIC telah memproduksi cip kelas 7 nanometer menggunakan litografi ultraviolet dalam (DUV), seperangkat peralatan yang mendahului teknologi tercanggih bernama ultraviolet ekstrem (EUV). Litografi multi-pola DUV lebih lambat dan mahal, tetapi dengan rekayasa yang memadai, teknologi ini dapat menghasilkan fitur yang lebih kecil. Sejumlah laporan mengindikasikan SMIC berupaya menuju teknologi proses yang lebih rapat sembari mengatasi keterbatasan dalam pengendalian lebar jalur dan tingkat hasil produksi. Selain mengembangkan proses, perancang China beralih ke arsitektur chiplet dan pengemasan canggih untuk menggabungkan beberapa cetakan cip dalam satu modul, cara meningkatkan kinerja tanpa hanya mengandalkan satu cetakan monolitik.
Memori dan penyimpanan
YMTC telah menaiki tangga kemajuan dalam NAND tiga dimensi dan mengirimkan produk yang mendekati jumlah lapisan tertinggi di dunia. Peningkatan kepadatan memori penting bagi pusat data dan ponsel, serta mendukung keamanan pasokan domestik meski memori pita lebar tinggi masih menjadi titik hambatan. Produsen DRAM dan memori khusus China juga mengalami kemajuan, didukung negara dan basis peralatan lokal yang terus berkembang.
Desain, EDA, dan arsitektur terbuka
Perusahaan desain di bawah naungan Huawei dan pihak lain menyasar akselerator AI berbasis set instruksi standar dan alternatif terbuka seperti RISC-V. Ketika akses ke perangkat otomasi desain elektronik (EDA) papan atas dari Barat makin dibatasi, investasi di EDA domestik melonjak. Insinyur China mengembangkan rangkaian alat untuk penempatan dan perutean, verifikasi, serta desain analog, sementara universitas menjajaki konsep perangkat baru, termasuk logika berbasis nanotabung karbon. Eksperimen ini mungkin belum segera mencapai produksi massal, tetapi dapat menjadi dasar bagi terobosan di masa mendatang.
Model AI yang menghasilkan lebih banyak dengan sumber daya lebih sedikit
Salah satu tanda adaptasi paling mencolok datang dari laboratorium AI China yang melatih model kompetitif menggunakan GPU yang kurang canggih. DeepSeek memperkenalkan model bahasa besar dengan anggaran komputasi yang dilaporkan sangat rendah, berkat peningkatan efisiensi dalam kurasi data, jadwal pelatihan, dan teknik inferensi. Sejumlah klaim masih diperdebatkan, tetapi pokok persoalannya tetap sama: keterbatasan memaksa tim mengoptimalkan perangkat lunak, alur data, dan desain model, lalu memaksimalkan kinerja perangkat keras kelas menengah.
Titik hambatan yang masih tersisa
Meski kemajuan meningkat pesat, China masih menghadapi kesenjangan kritis. Litografi merupakan yang paling terlihat. ASML tetap menjadi satu-satunya pemasok sistem EUV, dan peralatan tersebut tidak dapat diakses pabrik cip China. Produsen litografi domestik SMEE berkembang di teknologi proses matang dan menengah, tetapi masih tertinggal jauh dalam pemindai tercanggih. Tingkat hasil produksi pada teknologi proses terdepan sulit ditingkatkan tanpa rangkaian lengkap peralatan dan bahan resist dari sekutu. Dampak kumulatifnya terlihat pada biaya per wafer dan kapasitas produksi, dengan Taiwan dan Korea tetap unggul kuat.
Pasokan memori NAND telah membaik, tetapi memori pita lebar tinggi untuk AI masih terbatas dan sulit ditiru pada level teratas. Ekosistem perangkat lunak untuk GPU domestik berkembang, tetapi masih tertinggal dari pustaka dan perangkat yang telah dikembangkan selama bertahun-tahun untuk cip Amerika. Akses ke fitur EDA kelas atas dibatasi oleh kontrol, sehingga memperlambat waktu pemasaran dan menyulitkan verifikasi. Talenta juga menjadi kendala. China memiliki banyak insinyur, tetapi pengalaman membangun dan menjalankan pabrik terdepan dalam skala besar masih langka di luar segelintir perusahaan.
Ragam peralatan juga menjadi keterbatasan. China memiliki perusahaan terkemuka di bidang etsa dan deposisi, tetapi masih tertinggal dalam metrologi, inspeksi, dan bahan fotoresis. Setiap komponen yang kurang menambah waktu, biaya, dan ketidakpastian. Hambatan inilah yang membuat teknologi proses canggih berbasis siasat DUV mahal dan sulit ditingkatkan skalanya dibandingkan teknologi para pesaing yang menggunakan EUV.
Dampak terhadap bisnis global
Kontrol ekspor mengubah perhitungan ekonomi bagi banyak perusahaan Barat. Perancang cip AS kehilangan akses ke pasar besar, lalu kembali menghadapi perubahan akibat penyesuaian kebijakan. Perubahan aturan yang rumit, proses lisensi yang lama, dan ambang batas yang berubah menyulitkan perencanaan. Sejumlah perusahaan merancang produk khusus untuk China yang kemudian tidak lagi memenuhi batas setelah aturan direvisi, sehingga persediaan mereka terbengkalai. Produsen peralatan melihat permintaan melonjak di pasar yang bersahabat, tetapi kehilangan kepastian mengenai kontrak layanan dan peningkatan peralatan di China. Hilangnya pangsa pasar China juga membuka peluang bagi pemasok China untuk naik kelas.
CEO Nvidia Jensen Huang blak-blakan tentang besarnya perubahan di China bagi perusahaannya. Setelah Washington memperluas pembatasan, ia memperingatkan bahwa penjualan perusahaan di China merosot dan menyoroti biaya strategis yang lebih luas akibat menutup akses ke pasar AI terbesar di dunia.
China pada dasarnya kini tertutup bagi kami. Pangsa kami berubah dari hampir seluruh pasar menjadi nol.
Dampak itu merupakan sisi lain dari adaptasi yang dipaksakan terhadap China. Ketika perusahaan Amerika kehilangan akses pasar, perusahaan China mendapat alasan untuk membeli alternatif domestik. Hal itu kemudian memberi ruang bagi perancang cip dan produsen peralatan China untuk meningkatkan skala, sehingga biaya turun dan kinerja membaik seiring waktu. Ini adalah siklus umpan balik yang berdampak pada kedua pihak.
Permintaan AI mengubah peta kekuatan pasar
Pelatihan model AI besar telah menjadi pendorong utama permintaan cip canggih. Upaya mencari GPU non-AS dipercepat setelah akses ke komponen Amerika terdepan tertutup. Lini Ascend Huawei kini menjadi titik fokus bagi perusahaan cloud dan pengembang AI China, sementara koalisi perusahaan cip dan AI domestik mengoordinasikan dukungan perangkat lunak, penyetelan kinerja, dan pengembangan ekosistem. Semakin banyak laboratorium AI China mengklaim mampu melatih model tercanggih di klaster komputasi lokal yang menggunakan akselerator domestik.
Perusahaan AI China iFlytek menyatakan telah melatih model penalaran terbarunya sepenuhnya dengan komputasi domestik, sebuah tonggak simbolis bagi sektor yang sebelumnya bergantung pada GPU AS.
Model Spark X1 kami dilatih menggunakan infrastruktur komputasi milik China sendiri.
Produsen peralatan juga menyerukan kesabaran. Kepala salah satu pemasok peralatan etsa terkemuka China mengatakan kepada investor bahwa China dapat menutup sebagian besar kesenjangan dengan pemain global teratas dalam hitungan tahun, bukan dekade.
Beri kami waktu lima hingga sepuluh tahun, dan kami akan sejajar dengan yang terbaik.
Langkah-langkah tersebut mengandung risiko, tetapi menunjukkan bagaimana permintaan AI dan investasi jangka panjang saling mendukung. Jika akselerator domestik menyamai kinerja pesaing untuk sejumlah tugas, pembeli China akan lebih cepat beralih dari komponen impor dan ekosistem perangkat lunak akan mengikuti.
Pertukaran kepentingan kebijakan dan tantangan penegakan
Bagi Amerika Serikat, kompromi utamanya jelas. Kontrol dapat memperlambat kemajuan China di garis terdepan, tetapi juga menutup akses perusahaan AS ke pasar berkembang yang mendanai riset dan perluasan skala. Kontrol mendorong pelanggan netral mencari pemasok China dan mendorong perusahaan China berinvestasi di seluruh rantai industri. Karena itu, banyak analis kebijakan menganjurkan aturan yang presisi, penegakan kuat terhadap peralatan pabrik, dan kerja sama yang lebih erat dengan sekutu, disertai peningkatan investasi dalam riset, tenaga kerja, dan kapasitas manufaktur AS.
Penegakan adalah bagian tersulit. Cip dapat dialihkan melalui negara ketiga. Akses cloud sulit diawasi. Daftar entitas dan proses lisensi memerlukan pembaruan terus-menerus. Sementara itu, China tidak tinggal diam. Negara itu menerapkan langkah balasan di sektor mineral penting dan mendorong peralihan ke EDA serta peralatan cip domestik. Semakin lama persaingan berlangsung, semakin permanen perubahan ini.
Namun, bukan berarti kontrol tidak berguna. Kontrol dapat mengulur waktu, terutama di sisi peralatan, karena EUV dan sistem inspeksi kelas atas memiliki keunikan tersendiri. Pertanyaannya adalah bagaimana memanfaatkan waktu tersebut. Investasi publik pada pusat riset semikonduktor, hibah untuk pabrik baru, dan program untuk menarik talenta global dapat menentukan apakah keunggulan itu hanya sementara atau bertahan lama.
Hal yang perlu dicermati berikutnya
Sejumlah indikator akan memperlihatkan arah perkembangannya. Pertama, cermati tingkat hasil produksi dan volume cip China kelas 7 nanometer dan yang lebih rapat. Kedua, pantau kemajuan memori pita lebar tinggi domestik dan pengemasan, dua bidang yang menentukan kinerja sistem AI. Ketiga, amati kematangan ekosistem perangkat lunak di sekitar akselerator domestik, termasuk kompiler, kerangka kerja, dan pustaka. Keempat, ikuti penegakan aturan terkait pengiriman transit dan akses cloud. Kelima, pantau koordinasi sekutu dalam kontrol peralatan dan pembatasan layanan. Terakhir, perhatikan bagaimana kebijakan AS menyeimbangkan kontrol dengan investasi jangka panjang dan akses pasar bagi perusahaan dalam negeri.
Jika China terus meningkatkan kapasitas pada teknologi proses matang dan menengah sembari mendorong kemajuan di sejumlah bidang terdepan lewat pengemasan dan desain tingkat sistem, negara itu akan mampu memasok sebagian besar kebutuhannya sendiri dan bersaing di segmen luar negeri yang sensitif terhadap harga. Jika Amerika Serikat dan sekutunya memperketat kontrol peralatan serta memperkuat industri mereka sendiri, mereka dapat mempertahankan keunggulan di teknologi proses tercanggih dan peralatan yang memungkinkannya.
Poin Utama
- Kontrol ekspor AS sejak 2018 menyasar cip canggih, perangkat lunak desain, dan peralatan semikonduktor, dengan aturan yang makin ketat pada 2022 hingga 2025.
- Kontrol peralatan lebih sulit dielakkan daripada kontrol terhadap cip jadi, sehingga peralatan litografi dan inspeksi menjadi titik hambatan paling efektif.
- China mempercepat upaya domestik dengan mendanai desain, peralatan, dan pengemasan, menata ulang pengawasan nasional, serta menggunakan dana pemerintah kota untuk menarik talenta dan modal.
- Siasat yang ditempuh mencakup litografi multi-pola DUV untuk teknologi proses yang lebih rapat, chiplet, serta peningkatan pesat di bidang memori dan pengemasan canggih.
- Kesenjangan masih ada dalam litografi EUV, memori pita lebar tinggi, akses EDA, dan tingkat hasil produksi di teknologi proses canggih, serta pengalaman mengoperasikan pabrik berskala besar dengan volume tinggi.
- Perusahaan AS kehilangan penjualan besar di China, sementara pembeli China beralih ke alternatif domestik dan membantu pemasok lokal meningkatkan skala.
- Permintaan AI mendorong terbentuknya aliansi di sekitar akselerator domestik, dengan laboratorium China melaporkan pelatihan model besar menggunakan klaster komputasi lokal.
- Pilihan kebijakan kini bergantung pada kontrol yang presisi, penegakan kuat atas peralatan, dan investasi besar dalam riset, tenaga kerja, serta manufaktur AS.
- Indikator penting ke depan mencakup tingkat hasil produksi China pada teknologi proses canggih, kemajuan HBM domestik, kematangan ekosistem GPU lokal, dan kerja sama sekutu dalam kontrol peralatan.






